Attolight AG將于2025年5月21日至22日參加在德國(guó)哈雷舉辦的CAM Workshop 2025研討會(huì)并作報(bào)告，報(bào)告題目為“利用陰極發(fā)光技術(shù)對(duì)化合物半導(dǎo)體中的缺陷進(jìn)行表征”。該演講報(bào)告將探討Attolight公司先進(jìn)的陰極發(fā)光技術(shù)如何能夠精確識(shí)別和分析化合物半導(dǎo)體材料中的缺陷，這對(duì)于研究和工業(yè)流程優(yōu)化都至關(guān)重要。
演講人：Marc Fouchier-Attolight演講時(shí)間：2025年5月21日上午11點(diǎn)演講地點(diǎn)：德國(guó)哈雷的萊布尼茨國(guó)際應(yīng)用數(shù)學(xué)與計(jì)算數(shù)學(xué)研究所CAM-Workshop 2025研討會(huì)匯聚了來(lái)自學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的相關(guān)分析、先進(jìn)顯微鏡以及材料科學(xué)領(lǐng)域的頂尖專(zhuān)家。Attolight非常榮幸收到演講邀請(qǐng)，將展示其在推動(dòng)半導(dǎo)體表征的混合分析解決方案前沿發(fā)展方面所發(fā)揮的作用。
